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青岛育豪微电子设备有限公司
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LPCVD化学气相沉积设备
简单描述: ★设备用途:Si3N4、Poly-Si、SiO2薄膜生长的薄膜制备。 将原材料气体(或者液态源气化TEOS)热能激活发生化学应用而
2018-06-05
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2018-06-05
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